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    歡迎來到深圳市威固特超聲波科技開發(fā)有限公司
    PLC光纖分路器超聲波清洗機(jī)
    發(fā)布時(shí)間:2025-06-04 08:40:55閱讀:(207)

    在PLC光纖分路器的生產(chǎn)或維護(hù)過程中,確實(shí)存在某些配件可能需要用到超聲波清洗機(jī)進(jìn)行清潔的情況。以下是需要超聲波清洗的典型配件及注意事項(xiàng):

    1、光纖適配器(如LC/SC/FC等):

    金屬或陶瓷套筒可能沾染灰塵、油污,超聲波清洗可有效去除污染物,確保光纖對(duì)接精度。

    2、陶瓷插芯(Ferrule):

    用于光纖連接器的陶瓷插芯對(duì)清潔度要求極高,超聲波可清除微米級(jí)顆粒。

    3、分路器芯片(PLC Chip):

    在封裝前或維修時(shí),芯片表面需無塵無靜電,超聲波配合專用溶劑(如IPA)可安全清潔。

    4、金屬外殼或結(jié)構(gòu)件:

    若存在精密加工殘留的金屬碎屑或油脂,超聲波清洗比手工更徹底。

    超聲波清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì):

    1、高效去污:對(duì)復(fù)雜結(jié)構(gòu)(如適配器內(nèi)孔)的清潔效果優(yōu)于手工。

    2、非接觸式:避免物理刮擦損傷精密表面(如陶瓷)。

    3、一致性:適合批量處理,提高生產(chǎn)效率。

    威固特超聲波清洗機(jī)廠家提示清洗PLC光纖分路器的注意事項(xiàng):

    1、頻率選擇:

    精密部件(如陶瓷插芯)建議使用高頻(40kHz以上),避免低頻導(dǎo)致空化腐蝕。

    2、清洗液選擇:

    陶瓷/玻璃材質(zhì):用去離子水或酒精(IPA)。

    金屬部件:可添加中性清洗劑,避免腐蝕。

    禁用強(qiáng)酸強(qiáng)堿,防止損傷PLC分路器光學(xué)涂層。

    3、時(shí)間控制:

    通常3-5分鐘,過久可能導(dǎo)致部件松動(dòng)(如膠合處)或微裂紋。

    4、干燥步驟:

    清洗后需用無塵氮?dú)獯蹈苫虻蜏睾娓?,避免水漬殘留。

    威固特VGT-1409FH 是一款 14槽全自動(dòng)高端超聲波清洗系統(tǒng),適用于精密光學(xué)、PLC光纖分路器、半導(dǎo)體等領(lǐng)域的深度清洗。

    核心配置:

    1、槽數(shù):14槽全自動(dòng)流水線(可定制槽位功能)。

    2、超聲波頻率:多頻可選(28KHZ/40KHZ/80KHZ/120KHZ),不同槽位可獨(dú)立設(shè)定。

    3、清洗介質(zhì):支持去離子水、IPA(異丙酮)、光學(xué)級(jí)清洗劑。

    4、加熱系統(tǒng):恒溫控制(RT~90℃),部分槽位可高溫清洗。

    5、傳輸方式:機(jī)械臂/鏈條輸送(帶慢提拉功能,防止水漬殘留)。

    6、過濾系統(tǒng):0.1μm精密過濾+循環(huán)系統(tǒng),確保清洗液潔凈。

    7、干燥系統(tǒng):PLC+觸摸屏(可存儲(chǔ)100+組清洗程序,支持遠(yuǎn)程監(jiān)控)。

    8、潔凈度:可選Class 100-1000無塵適配。

    9、產(chǎn)能:500-2000件/小時(shí)(取決于節(jié)拍時(shí)間)。

    更高效的干燥與防污染設(shè)計(jì):

    IPA蒸氣+熱風(fēng)+真空三級(jí)干燥:先通過IPA(異丙醇)蒸氣置換水分,再用80℃熱風(fēng)烘干,最后可選真空干燥,確保零水漬殘留。

    防靜電+無塵設(shè)計(jì):設(shè)備材質(zhì)采用防靜電PP/不銹鋼,傳輸帶配備離子風(fēng)棒,防止灰塵吸附。

    行業(yè)特定優(yōu)化(針對(duì)PLC光纖分路器)

    陶瓷插芯(Ferrule)專用夾具避免清洗過程中插芯碰撞,確保 端面零劃傷。

    分路器芯片(PLC Chip)保護(hù)模式采用 低頻+短時(shí)間清洗(如40kHz/1分鐘),防止膠合層開裂。

    金屬外殼去脂優(yōu)化:針對(duì)分路器鋁合金外殼,設(shè)定 60℃+堿性清洗劑 槽位,高效去除油脂。

    威固特VGT-1409FH(或同類14槽設(shè)備) 還可能具備智能控制、兆聲波/真空清洗、三級(jí)干燥、防靜電設(shè)計(jì)、模塊化擴(kuò)展 等高端功能,進(jìn)一步滿足 PLC光纖分路器、半導(dǎo)體、光學(xué)元件 的苛刻清洗要求。



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